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中科院删除5nm光刻机新闻,国产光刻机将何去何从?

2020-08-20 10:56   来源: 互联网

        最近,华为宣布关闭麒麟芯片,由于美国法规的限制,许多使用美国技术的芯片合同制造商被迫取消与华为的合作,导致华为的麒麟芯片无人值守,最终不得不面临暂时关闭,这也在中国引起了巨大反响,暴露了中国半导体行业的落后。

        

        在中国人民忧心忡忡之际,中科院一篇关于开发新型5nm超精密光刻机的文章走红了。许多自传称,国产芯片已被保存,但不久,中国科学院删除了这篇约5nm的新闻,官员没有对此事作出任何回应。

        

        事实上,这项技术还处于测试阶段,要真正取代光刻机还有很长的路要走。几十年前,我国确认了光刻机的重要性和战略,并最终在我国开始了光刻机的研发计划。然而,由于我国科学技术产业的落后,GK-3接触式光刻机是1977年才发展起来的,与当时的1:1投影光刻机和分步投影光刻机有很大不同。

        

        ASML的崛起改变了现有光刻机的格局,不仅赶上了尼康和佳能,而且占据了很大的市场份额。然而,我国与西方还存在一些差距,ASML的出现扩大了我国光刻机的距离,加之政策支持的减少和西方技术的封锁,导致了国内光刻机的困境。然而,这仍然是一个意识形态问题,真正导致了国内光刻机的破产。在"建筑不如买"的思想转变下,许多人选择购买现成的光刻机,迫使我国光刻机的发展暂停。

        

        幸运的是,中国也开始了光刻机的发展,2007年上海微电子公司推出了第一台90 nm工艺投影光刻机,但不久,西方对中国元件实施了禁运,导致部分光刻机部件无法补充,最终无法进行大规模的大规模生产。

        

        除了西方国家的局限性外,我国光刻机研发困难的主要原因是意识形态问题,当"建筑不如买"成为主流时,我们动摇了自主研究技术的决心,因此在任何领域,我们都无法产生影响,一旦"不可能"和"不可能"出现在我们的脑海中,我们就已经失败了。

责任编辑:fafa
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